Positiv-Fotolack

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Fotolack — Fotolacke (englisch photoresist) werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich sowie bei der… … Deutsch Wikipedia
Elektronenstrahllithografie — Die Elektronenstrahllithografie (ESL, englisch electron beam lithography oft als e beam lithography abgekürzt) ist in der Mikro und Halbleitertechnik ein spezielles Verfahren zur Strukturierung einer Elektronenstrahl empfindlichen Schicht… … Deutsch Wikipedia
Integrierter Schaltkreis — Integrierter Schaltkreis. Das Chip Gehäuse wurde geöffnet und ermöglicht den Blick auf den eigentlichen Halbleiter. Die erkennbaren Strukturen im Zentrum sind die realisierte elektronische Schaltung. Im Außenbereich sind die goldenen… … Deutsch Wikipedia
LOCOS-Prozess — LOCOS, kurz für englisch Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an… … Deutsch Wikipedia
SU-8 — ist ein Fotolack der Firma Microchem Corp. und gehört zu der Gruppe der Negativ Resiste. Wie die meisten Resiste besteht SU 8 aus den drei Bestandteilen Grundharz, Lösungsmittel und fotoempfindlicher Komponente. Zum Einsatz kommt SU 8 meist in… … Deutsch Wikipedia

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